多弧離子鍍膜機(jī)的核心技術(shù)是它的電弧蒸發(fā)源，多弧離子鍍膜機(jī)的蒸發(fā)源是一種比較特殊的冷陰極電弧放電的自蒸發(fā)、自電離式的一種固體型蒸發(fā)源。
　　所謂多弧離子鍍膜機(jī)就是用多個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的一種離子鍍膜設(shè)備，通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等。相較于其他鍍膜工藝，它具備的特點(diǎn)有：
　　機(jī)械整體簡(jiǎn)單、設(shè)備生產(chǎn)效率高、工作周期短、適合大批量的工業(yè)化生產(chǎn)。
　　較大的鍍膜空間。 電弧蒸發(fā)源為固態(tài)，可靈活放置，所以工件在裝卡更換時(shí)更加簡(jiǎn)單，無需附加加熱器使用。
　　工藝范圍廣。適合在較高真空或較低環(huán)境溫度（200?C）下做反應(yīng)鍍、離子鍍。
　　具備優(yōu)異的膜性能。工件的轟擊加熱、清潔和沉積交由離化金屬等離子體轟擊完成，實(shí)現(xiàn)“一弧三用”，且膜層結(jié)構(gòu)致密性高，膜層與鍍件牢固結(jié)合。
　　目前，多弧離子鍍膜機(jī)最突出的經(jīng)典應(yīng)用就是于刀具上鍍氮化鈦超硬鍍層。可以鍍制TiC、TiN等超硬膜，銅、銀、鋁、鉻、釔等高低溫耐腐蝕膜，或是不銹鋼、黃銅、鎳鉻等裝飾、保護(hù)膜層以及WC類金剛石等特硬膜。多弧離子鍍膜機(jī)的電弧蒸發(fā)源適用范圍較廣，既可反離子鍍，又可蒸鍍金屬結(jié)構(gòu)材料、合金材料。且由于離子鍍具備沉積速度快、鍍料適用廣、鍍層附著粘合性良好、膜致密性高等特點(diǎn)，現(xiàn)在其應(yīng)用日益廣泛，在未來是可能逐漸取代濕式電鍍的存在。目前，在電子、化工、輕工、機(jī)械、國(guó)防、采礦、冶金等諸多行業(yè)領(lǐng)域均有涉及。
　　標(biāo)簽：多弧電源