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電弧蒸發(fā)源和多弧離子鍍膜機(jī)的優(yōu)勢(shì)有哪些

返回列表 來(lái)源: 發(fā)布日期:2021-02-26

多弧離子鍍膜機(jī)的核心技術(shù)是它的電弧蒸發(fā)源,多弧離子鍍膜機(jī)的蒸發(fā)源是一種比較特殊的冷陰極電弧放電的自蒸發(fā)、自電離式的一種固體型蒸發(fā)源。

  所謂多弧離子鍍膜機(jī)就是用多個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的一種離子鍍膜設(shè)備,通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等。相較于其他鍍膜工藝,它具備的優(yōu)勢(shì)有:

  機(jī)械整體簡(jiǎn)單、設(shè)備生產(chǎn)效率高、工作周期短、適合大批量的工業(yè)化生產(chǎn)。

  較大的鍍膜空間。 電弧蒸發(fā)源為固態(tài),可靈活放置,所以工件在裝卡更換時(shí)更加簡(jiǎn)單,無(wú)需附加加熱器使用。

  工藝范圍廣。適合在較高真空或較低環(huán)境溫度(200?C)下做反應(yīng)鍍、離子鍍。

  具備優(yōu)異的膜性能。工件的轟擊加熱、清潔和沉積交由離化金屬等離子體轟擊完成,實(shí)現(xiàn)“一弧三用”,且膜層結(jié)構(gòu)致密性高,膜層與鍍件牢固結(jié)合。

  標(biāo)簽:多弧電源線路板

多弧電源線路板.jpg

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