磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

　　磁控濺射鍍膜工藝在日常操作過程中有哪些常見的故障呢？

　　磁控濺射鍍膜常見故障及解決辦法

　　無法起輝

　　（1）直流電源故障，檢查直流電源；

　　（2）氬氣進氣量小，檢查氬氣流量計或加大氬氣進氣量；

　　（3）真空室清潔度不夠，清潔真空室；

　　（4）靶材絕緣度不夠，檢查靶是否與地短路，在通水的情況下，對地電阻應該在 50kΩ以上；

　　（5）磁場強度不夠，檢查永磁體是否消磁；

　　（6）真空度太差，檢查真空系統。

　　輝光不穩

　　（1）電壓電流不穩，檢查電源；

　　（2）真空室壓力不穩，檢查氬氣進氣量及真空系統；

　　（3）電纜故障，檢查電纜是否連接良好。

　　成膜質量差

　　（1）基片表面清潔度差，清潔基片表面；

　　（2）真空室清潔度差，清潔真空室；

　　（3）基片溫度過大或過小，檢查溫控系統，校準熱電偶；

　　（4）真空室壓力過大，檢查真空系統；

　　（5）濺射功率設置不當，檢查直流電源，設置何事的設定功率。

　　濺射速率低

　　（1）氬氣進氣量過大或過小，觀察輝光顏色可以判定氬氣是過大還是過小，據此調整氬氣進氣量；檢修流量計；

　　（2）靶材過熱，檢查冷卻水流量；

　　（3）檢查永磁體是否消磁。

　　標簽：直流磁控濺射電源