磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。

　　磁控濺射鍍膜工藝在日常操作過(guò)程中有哪些常見(jiàn)的故障呢？

　　磁控濺射鍍膜常見(jiàn)故障及解決辦法

　　無(wú)法起輝

　　（1）直流電源故障，檢查直流電源；

　　（2）氬氣進(jìn)氣量小，檢查氬氣流量計(jì)或加大氬氣進(jìn)氣量；

　　（3）真空室清潔度不夠，清潔真空室；

　　（4）靶材絕緣度不夠，檢查靶是否與地短路，在通水的情況下，對(duì)地電阻應(yīng)該在 50kΩ以上；

　　（5）磁場(chǎng)強(qiáng)度不夠，檢查永磁體是否消磁；

　　（6）真空度太差，檢查真空系統(tǒng)。

　　輝光不穩(wěn)

　　（1）電壓電流不穩(wěn)，檢查電源；

　　（2）真空室壓力不穩(wěn)，檢查氬氣進(jìn)氣量及真空系統(tǒng)；

　　（3）電纜故障，檢查電纜是否連接良好。

　　成膜質(zhì)量差

　　（1）基片表面清潔度差，清潔基片表面；

　　（2）真空室清潔度差，清潔真空室；

　　（3）基片溫度過(guò)大或過(guò)小，檢查溫控系統(tǒng)，校準(zhǔn)熱電偶；

　　（4）真空室壓力過(guò)大，檢查真空系統(tǒng)；

　　（5）濺射功率設(shè)置不當(dāng)，檢查直流電源，設(shè)置何事的設(shè)定功率。

　　濺射速率低

　　（1）氬氣進(jìn)氣量過(guò)大或過(guò)小，觀察輝光顏色可以判定氬氣是過(guò)大還是過(guò)小，據(jù)此調(diào)整氬氣進(jìn)氣量；檢修流量計(jì)；

　　（2）靶材過(guò)熱，檢查冷卻水流量；

　　（3）檢查永磁體是否消磁。

　　標(biāo)簽：直流磁控濺射電源