真空鍍膜技術我們都不陌生，真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

真空鍍膜電源：

　　1、設備中的真空管道、靜態密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T6070的規定。

　　2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規管，分別測量各部位的真空度。當發現電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。

　　3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱

　　4、設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。

　　5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。

　　6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。

　　7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。

　　8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩定。

　　9、真空室接不同電位的各部分間的絕緣電阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4、4、6

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