真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的設(shè)備，目前生活中使用到的物品都離不開真空鍍膜行業(yè)。
　　但是許多人都不知道真空鍍膜的主要構(gòu)成部分，接下來讓我們一起來認(rèn)識一下真空鍍膜機(jī)的主要構(gòu)成部分。其中有：真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動部分、加熱及測溫部分、離子蒸發(fā)及濺射源、水冷系統(tǒng)。
　　1、真空室
　　涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進(jìn)行化學(xué)拋光處理，真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口。
　　2.真空獲得部分
　　在真空技術(shù)中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達(dá)到的，必須將幾種泵聯(lián)合使用，如機(jī)械泵、羅茨泵、分子泵系統(tǒng)等。
　　3.真空測量部分
　　真空系統(tǒng)的真空測量部分，就是要對真空室內(nèi)的壓強(qiáng)進(jìn)行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等等。
　　4.電源供給部分
　　靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等
　　5.工藝氣體輸入系統(tǒng)
　　工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮?dú)?N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應(yīng)，經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥，然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是，管路簡捷、明快，維修或更換氣瓶容易。各涂層機(jī)之間互不影響。也有多臺涂層機(jī)共用一組氣瓶的情況，這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機(jī)會看到。它的好處是，減少氣瓶占用量，統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點(diǎn)是，由于接頭增多，使漏氣機(jī)會增加。而且，各涂層機(jī)之間會互相干擾，一臺涂層機(jī)的管路漏氣，有可能會影響到其他涂層機(jī)的產(chǎn)品質(zhì)量。此外，更換氣瓶時，必須保證所有機(jī)臺都處于非用氣狀態(tài)。
　　6.機(jī)械傳動部分
　　涂層要求周邊必須厚度均勻一致，因此，在涂層過程中須有三個轉(zhuǎn)動量才能滿足要求。即在要求大工件臺轉(zhuǎn)動(I)的同時，小的工件承載臺也轉(zhuǎn)動( II),并且工件本身還能同時自轉(zhuǎn)(III)。在機(jī)械設(shè)計上，一般是在大工件轉(zhuǎn)盤底部中央為一大的主動齒輪，周圍是一些小的星行輪與之嚙合，如果要實現(xiàn)產(chǎn)品自轉(zhuǎn)的話，一般用撥叉撥動工件自轉(zhuǎn)。
　　7.加熱及測溫部分
　　涂層設(shè)備一般有不同位置的加熱器，用熱電偶測控溫度。但是，由于熱電偶裝夾的位置與工件位置不同，溫度讀數(shù)不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的真實溫度，有很多方法，可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。
　　8.離子蒸發(fā)及濺射源
　　多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動磁鐵，改變磁場強(qiáng)度，可調(diào)整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。
　　9.水冷系統(tǒng)
　　一般由冷水塔，冰水機(jī)，水泵等組成。
　　真空鍍膜機(jī)都離不開以上的任何一個零件，有這些零件一臺真空鍍膜機(jī)才算完整，才能正常的運(yùn)行。
　　標(biāo)簽;真空鍍膜電源