1、真空室

　　涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進(jìn)行化學(xué)拋光處理，真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口。

　　2、真空獲得部分

　　在真空技術(shù)中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達(dá)到的，必須將幾種泵聯(lián)合使用，如機(jī)械泵、羅茨泵、分子泵系統(tǒng)等。

　　3、真空測量部分

　　真空系統(tǒng)的真空測量部分，就是要對(duì)真空室內(nèi)的壓強(qiáng)進(jìn)行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計(jì)能測量整個(gè)真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計(jì)。如熱偶計(jì)，電離計(jì)，皮拉尼計(jì)等。

　　4、電源供給部分

　　靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等。

　　5、工藝氣體輸入系統(tǒng)

　　工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮?dú)?N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應(yīng)，經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計(jì)、電磁閥、壓電閥，然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是，管路簡捷、明快，維修或更換氣瓶容易。各涂層機(jī)之間互不影響。也有多臺(tái)涂層機(jī)共用一組氣瓶的情況，這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機(jī)會(huì)看到。它的好處是，減少氣瓶占用量，統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點(diǎn)是，由于接頭增多，使漏氣機(jī)會(huì)增加。而且，各涂層機(jī)之間會(huì)互相干擾，一臺(tái)涂層機(jī)的管路漏氣，有可能會(huì)影響到其他涂層機(jī)的產(chǎn)品質(zhì)量。此外，更換氣瓶時(shí)，必須保證所有機(jī)臺(tái)都處于非用氣狀態(tài)。

　　6、機(jī)械傳動(dòng)部分

　　涂層要求周邊必須厚度均勻一致，因此，在涂層過程中須有三個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)量才能滿足要求。即在要求大工件臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)(I)的同時(shí)，小的工件承載臺(tái)也轉(zhuǎn)動(dòng)( II),并且工件本身還能同時(shí)自轉(zhuǎn)(III)。在機(jī)械設(shè)計(jì)上，一般是在大工件轉(zhuǎn)盤底部中央為一大的主動(dòng)齒輪，周圍是一些小的星行輪與之嚙合，如果要實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品自轉(zhuǎn)的話，一般用撥叉撥動(dòng)工件自轉(zhuǎn)。

　　7、加熱及測溫部分

　　涂層設(shè)備一般有不同位置的加熱器，用熱電偶測控溫度。但是，由于熱電偶裝夾的位置與工件位置不同，溫度讀數(shù)不可能是工件的真實(shí)溫度。要想測得工件的真實(shí)溫度，有很多方法，可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計(jì)。

　　8、離子蒸發(fā)及濺射源

　　多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動(dòng)磁鐵，改變磁場強(qiáng)度，可調(diào)整弧斑移動(dòng)速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形濺射陰極。

　　9、水冷系統(tǒng)

　　一般由冷水塔，冰水機(jī)，水泵等組成。

　　10、工控系統(tǒng)

　　標(biāo)簽：多弧鍍膜電源